Đề tài seminar : Khắc bằng chùm điện tử

Electron beam lithography (EBL) là thuật ngữ chỉ công nghệ tạo
các chi tiết trên bề mặt (các phiến Si...) có kích thước và hình dạng
giống như thiết kế bằng cách sử dụng chùm điện tử có
năng lượng cao làm biến đổi các chất cản quang phủ trên bề mặt
phiến.
EBL là một công cụ phổ biến trong công nghệ nanô để tạo ra các
chi tiết, các linh kiện có kích thước nhỏ với độ chính xác cực cao.